氮化物研磨分散機(jī)，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團(tuán)聚。

氣相二氧化硅分散機(jī)，氣相二氧化硅分散，氣相二氧化硅原本為納米級(jí)粒徑，分散時(shí)易團(tuán)聚，難以分散機(jī)，傳統(tǒng)高速分散機(jī)無法分散*，存在死角。采用SGN研磨分散機(jī)，管線式結(jié)構(gòu)，物料一進(jìn)一出，物料*得到分散剪切。

高剪切納米分散機(jī)，上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司的研發(fā)人員進(jìn)行不斷的摸索和實(shí)驗(yàn)，開發(fā)出新型的三級(jí)分散機(jī)，三組定轉(zhuǎn)子同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)，增強(qiáng)了剪切力、提高了生產(chǎn)效率?？梢允刮锪系玫郊{米級(jí)物料粒徑，并且體系更加均勻。

液體硅橡膠分散機(jī)，液體硅橡膠，含有20%氣相二氧化硅，高溫下和有水存在是會(huì)接皮。如何讓氣相二氧化硅均勻的分散到體系當(dāng)中，是一個(gè)比較大的難點(diǎn)。因?yàn)橐后w硅橡膠本身粘度高，難以流動(dòng)，再加上氣相二氧化硅本身達(dá)納米級(jí)粒徑，容易團(tuán)聚難以分散。

硝基咪唑類眼膏高剪切研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，超高速剪切研磨分散，SGN研磨分散機(jī)是迄今為止在流體研磨分散領(lǐng)域*的一款設(shè)備。GMD2000型研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速Z高可達(dá)14000rpm，線速度Z高可達(dá)44m/s，設(shè)備采用膠體磨與分散均質(zhì)乳化機(jī)合二為一的方式，使GM2000型設(shè)備即研磨、剪切、分散、均質(zhì)、乳化等諸多功能。目前SGN研磨分散機(jī)在流體研磨分散領(lǐng)域有著極其廣泛的應(yīng)用。

陶瓷研磨分散機(jī)要求顆粒大小達(dá)到納米級(jí)，所以在研磨分散工藝上就需要采用一定的手段，我公司的高剪切分散機(jī)與錐體磨可為您解決這一難題。特別是錐體磨，磨頭可采用氧化鋁材質(zhì)，在研磨分散過程中不會(huì)產(chǎn)生鐵等雜質(zhì)影響陶瓷隔膜劑的效果。